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光刻胶的参数介绍
1．对比度（co*ast）
对比度指光刻胶从*区到非*区过渡的陡度。 对比度越好，越容易形成侧壁陡直的图形和较高的宽高比。
2．粘滞性/黏度 （viscosity）
衡量光刻胶流动特性的参数。黏度通常可以使用光刻胶中聚合物的固体含量来控制。同一种光刻胶根据浓度不同可以有不同的黏度，而不同的黏度决定了该胶的不同的涂胶厚度。
3．*蚀性（anti-etching）
光刻胶必须保持它的粘附性，在后续的刻蚀工序中保护衬底表面。耐热稳定性、*刻蚀能力和*离子轰击能力。
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硅片模具加工如何选择光刻胶呢？
注意事项：
①若腐蚀液为碱性，则不宜用正性光刻胶；
②看光刻机型式，若是投影方式，用常规负胶时氮气环境可能会有些问题
③负性胶价格成本低，光刻胶公司，正性胶较贵；
④工艺方面：负性胶能很好地获得单根线，而正性胶可获得孤立的洞和槽；
⑤健康方面：负性胶为有机溶液处理，不利于环境；正性胶属于水溶液，光刻胶供应商，对健康、环境无害。
以上内容由赛米莱德为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助！
光刻胶相关信息
赛米莱德——光刻胶供应商，我们为您带来以下信息。
光刻胶是印刷线路板、显示面板、集成电路等电子元器件的上游。光刻胶产业链覆盖范围非常广，上游为基础化工材料行业、精细*行业，中游为光刻胶制备，光刻胶厂家，下游为电子加工厂商、各电子器产品应用终端。由于上游产品直接影响下游企业的产品质量，下业企业对公司产品的质量和供货能力十分重视，常采用认证采购的模式，进入壁垒较高。
在下游半导体、lcd、pcb等行业需求持续扩大的拉动下，光刻胶，光刻胶市场将持续扩大。2018年光刻胶市场规模为85亿美元，2014-2018年复合增速约5%。据ihs，未来光刻胶复合增速有望维持5%。按照下游应用来看，目前半导体光刻胶占比24.1%，lcd 光刻胶占比26.6%，pcb 光刻胶占比24.5%，其他类光刻胶占比24.8%。
光刻胶公司-光刻胶-北京赛米莱德(查看)由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司为客户提供“光刻胶”等业务，公司拥有“赛米莱德”等品牌，专注于工业制品等行业。，在北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208的名声不错。欢迎来电垂询，联系人：况经理。