武汉光谷新硅科技有限公司

光谷新硅于2003年12月在上海901厂开始建厂开始研发工作，武汉光谷新硅科技有限公司在上海有色研究所多年研究成果的基础上，组织多年从事该项目研制的科研人员和出国留学人员经过多年的潜心研制和奋力攻关，多年来我们只做一件事--光纤级四氯化硅，目前已经成功突破重点技术环节（纯度达到99.%）。经过具有国家认证资格的检验实验室检测，高纯四氯化硅各项技术指标均达到国外同类产品的先进水准。公司多年来要投入大量资金进行新产品的开发和研制。立足自主知识产权，走科技创新之路。本公司依靠自己的技术不断深化研究。已形成了一套自创的先进工艺设备，辅之以计算机自动化测量控制系统。在2009年以前我们一直致力于研发用于PCVD（微波等离子体激活化学汽相沉积法PCVD-PlasmaactivatedChemicalVapourDeposition）技术下的11N无水峰光纤级的四氯化硅产品，公司在多年的研发中掌握了一套稳定的检测方法、发明了自己的取样器和取样方法，保证了分析数据的准确性和一致性。在工作期间公司已取得三项发明技术专利。在上海研发过程是在工厂反复测试的过程缺乏实验环境，因此我们决定将工厂搬迁至PCVD技术的客户--武汉，以谋求更多的交流和实验的机会。武汉新的团队在上海的基础上打破常规的研发方法力求从不同角度创新，目前产品在部分预制棒企业上线测试通过。公司通过2009年年底对国内6家光棒公司进行了再次调研和分析，目前VAD技术已经开始大规模的投入，由于VAD技术对四氯化硅的技术要求和PCVD的技术要求不同，需求量也完全不同，因此我公司立即将工厂扩产，公司目前实际产能11N年产200吨/年，6N-9N产品2500吨/年，运输周转罐装灌20吨四个，研发和建立了在线监测体系来保证产品的稳定性。目前公司已经完全具备将国产四氯化硅国产化应用到光棒企业的要求。国产光纤级高纯四氯化硅投放市场，将结束光纤业依靠进口的历史。节约能源、降低成本、低碳环保加速我国光纤业的发展。我们努力十年期望将技术优势转化为成熟稳定的产品，以满足了光棒市场需求，为中国光通讯事业尽一份力量，为民族工业尽一份力量。