供应日本光弛2350镀膜机

1.标配参数：单枪、 离子源、 晶控、23公分的射频源、 热阻蒸、 顶部侧部加热、 两个扩散泵、一个螺丝泵、一个机械泵
2.用途：此真空镀膜机是镀制防污膜（as膜）及防反射膜+防污膜（af+as膜）型光学镀膜机，应用于镀膜机等所配的触摸屏。真空中制备膜层可防止膜料和镀件表面的污染，消除空间碰撞，提高镀层的致密性和可制备单一化合物的特殊功能的镀层。为了提高镀层厚度的均匀性，运动模式的膜均匀性好，镀层的台阶覆盖性能好，承载能力大，可充分利用有效空间的真空镀膜室，是一个运动的常用模式。排气系统一般由机械泵，扩散泵，管道和阀门组成。为了提高泵的流量，可以添加增压器之间的机械泵和扩散泵。因此，不仅在较短的时间内低压力以保证快速的工作循环的排气系统，还需要确保气体的蒸发源和蒸镀工件表面产生快速的去除。蒸发系统包括电气设备和加热蒸发源蒸发源。电气设备包括测量真空薄膜的厚度和控制
3.特征：磁密封驱动的基板旋转式可得到稳定和均匀的膜厚分布
4.配备：配备rf离子源以提高膜的耐摩擦性；用于防污膜（as 膜）批量生产；防污膜（as 膜）批量生产。
5.性能：达到压强7.0e-5pa以下
6.配置参数：
真空室 ф2350mm×h 1400mm
基板架 ф2200 mm
基板架转速 20rpm
晶振式膜厚计 6点式⽔晶传感器
蒸发源 电⼦枪1台，热阻蒸
达到压强 7.0e-5pa 以下
排强时间 15分以下（压强〜2.0×10-3 pa）
7.工作条件：
设备尺寸 约6300mm (w)×9000mm (d) ×4000mm (h)
电源 3相,200v,50/60hz,约80kva
水流量 220升/分以上
空气压力 0.5-0.7mpa
重量 约12000kg