岛津氮化硅基板真空烧结炉PHSgr60/60/14

日本岛津氮化硅基板真空加压烧结炉phsgr60/60/140适用于si₃n₄氮化硅材料从脱气到加压烧结的连续处理。新能源汽车、高铁、城市轨道交通、5g 基站等设备上大功率控制模块的散热基板 及汽车、风电等设备上高精度、高转速陶瓷轴承球的烧结处理。
用途：si₃n₄氮化硅基板、si₃n₄氮化硅轴承球、 si₃n₄氮化硅结构件
日本岛津氮化硅基板真空加压烧结炉phsgr60/60/140技术规格
有效尺寸(mm)：600*600*1400
处理量(kg)：720
额定温度(℃)：2200
真空度(pa)：7x10-1
压力：0.9mpag
加热电力：n2,ar
岛津作为日本真空炉专业生产代表厂家，在硬质合金，合金陶瓷，金属注射成形的生产和研究开发市场占有大部分的市场份额。经过数十年培育出的技术和成熟的生产工艺，系列化生产的真空炉，可以为用户提供高质量的产品和服务。在中国，韩国等海外市场，也已拥有众多的销售业绩，并得到客户的青睐。
由于1mpa的低压烧结，可以在一定程度上提高产品的抗弯强度和明显减少偏差，因此部分替代6mpa的低压炉使用，从而降低生产成本。