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金属靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料。有金属类、合金类、氧化物类等等。
简单说的话，纯银零部件厂家，例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜......铝膜等。更换不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、*、防腐的合金膜等）。
应用于显示屏的阻挡层或调色层，笔记本电脑的装饰层、电池的封装等.
背靶材料：
无氧铜(ofc)– 目前常使用的作背靶的材料是无氧铜，因为无氧铜具有良好的导电性和导热性，纯银零部件生产加工，而且比较容易机械加工。 如果*适当，无氧铜背靶可以重复使用10次甚至更多。
钼(mo)– 在某些使用条件比较特殊的情况下，如需要进行高温帖合的条件下，纯银零部件哪家好，无氧化铜容易被氧化和发生翘曲， 所以会使用金属钼为背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金属靶材的热膨胀系数无法与无氧铜匹配，同样也需要使用金属钼作为背靶材料。
溅射技术：溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，纯银零部件，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是制备溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。
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