京迈研3426氟化镁靶材MgF2磁控溅射材料电子束镀膜蒸发料

3426 氟化镁靶材mgf2磁控溅射材料电子束镀膜蒸发料【参数说明】
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
【产品介绍】
氟化镁是一种无色四方晶体或粉末，无味，难溶于水和醇，微溶于稀酸，溶于在电光下加热呈弱紫色荧光，其晶体有良好的偏振作用，特别适于紫外线和红外光谱性。
中文名
氟化镁
熔点
1261°c
化学式
mgf2
沸点
2260°c 分解
分子量
62.3018
密度
3.148 g/cm3
【关于我们】
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法gdms或icp光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
注 ：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3w/cm2。
我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材，欢迎您的垂询。