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真空镀膜设备中频磁控溅射知识
真空镀膜设备中频磁控溅射知识源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为*靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴*），等离子体，和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。
箱式真空镀膜机
采用箱式结构，真空系统后置，便于操作和维修；整机表面平整，方便清洁，特别适合放置在净化间内做穿墙式安装。
设备真空系统抽速大，具有抽气时间短，真空度高，生产周期短等优点。
采用管状加热器上烘烤，烘烤温度均匀，寿命长，可达到烘烤温度350℃，烘烤均匀性270℃±10℃。
工件转动采用上部中心驱动，轴承带水冷，磁流体密封，转动平稳可靠。
采用石英晶体膜厚控制仪，可实现镀膜过程的自动控制。
采用*的镀膜控制系统，人机操作界面美观实用，系统，可实现系统的手动、半自动和全自动操作。
适用范围:用于生产ir-cut滤光片、分色滤光片、高反射膜、ar膜、长波通、短波通和多种电学薄膜
真空镀膜设备作业时的应急预案,你懂多少?
首先设备工作一段时间，需要清理打扫，一般50到70炉次，需清理打扫，把粉尘清出炉外，然后空炉工作一次。工作的方式是先抽空为真空度高于10-2pa时加热，加热温度一般高于正常使用温度的20℃。在高炉温时保温一个小时以上，然后自然冷却。这样使设备内部空间保持清洁。然后应该先涂少量真空泵油对旋转部件的润滑表面。请注意清洁，非铁，沙子和灰尘进入真空泵，定位要接触良好。真空泵的安装应转动轻松，无凹凸不平和堵塞现象严重。真空镀膜设备所用充气气瓶需更换时，拆掉稳压阀，换上一瓶新气，一定要注意安装时不许漏气。在换上新气瓶后，在工件没加热前，应在抽空过程中对炉内充气，以便在换气瓶过程中造成的管路内存有的大气抽出，使充气管路保持清洁。正常工作时，如果发现设备突然漏气，如马上能找到泄，须用真空封泥把泄封住，待工作完毕后，再做处理。如不能确定*处，则应立即停止工作，然后检修。
我们经常有时候会碰到机器在运行的时候，碰到高温时断水、断电，这是让人头疼的事情。因此用户好在设备安装时建有备用水箱或者连有自来水管。设备在高温时断水、断电‘此时，泵、阀门均处于关闭状态，操作人员应马上接通备用水或自来水，对设备进行水冷，如不能很快来电，还应打开充放气系统的手动充气阀，对设备进行充气保护，充气压力为-0.02mpa左右。然后，把控制柜上的所有按钮关至“关”的位置。同事用湿毛巾搭在电*引出接口处，定期更换，以免电*接口过热，造成密封圈损坏。