京迈研3417氮化钛靶材TiN磁控溅射材料电子束镀膜蒸发料

3417 氮化钛靶材tin磁控溅射材料电子束镀膜蒸发料【参数说明】
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
【产品介绍】
氮化钛tin具有典型的cl型结构，属面心立方点阵，晶格常数a=0.4241nm，其中钛原子位于面心立方的角顶。tin是非化学计量化合物，其稳定的组成范围为tin0.37-tin1.16，氮的含量可以在一定的范围内变化而不引起tin结构的变化。tin粉末一般呈黄褐色，超细tin粉末呈黑色，而tin晶体呈金tin熔点为2950℃，密度为5.43-5.44g/cm3，莫氏硬度8-9热冲击性好。tin熔点比大多数过渡金属氮化物的熔点高，而密度却比大多数金属氮化物低，因此是一种很有特色的耐热材料。tin的晶体结构与tic的晶体结构相似，只是将其中的c原子置换成n原子。
中文名
氮化钛
熔点
3290℃
化学式
tin
密度
5.43g/cm3
分子量
61.8737
【关于我们】
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法gdms或icp光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
注 ：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3w/cm2。
我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材，欢迎您的垂询。