芬创科技-西格玛光机-强激光用电介质膜反射镜 TFMHP

强激光用电介质膜反射镜tfmhp
适用于高功率，脉冲nd-yag激光（或yb-ylf激光）或准分子激光的光学系统的反射镜。
◦可以提供用于yag激光器的，从基波（1064nm）到4次谐波（266nm）的反射镜和ar*f（193nm），kr*f（248nm）的准分子激光用的
反射镜。
◦反射率高，经过多个反射镜反射后，光量也不会衰减很多。
◦使用吸收小的电介质膜，可以承受大功率激光的连续照射.
承接制造产品目录之外的其他尺寸或波长特性的反射镜。请利用客户问
询单。
▶也可以在低散乱基板上镀强激光用多层电介质膜。
▶激光损伤阈值根据iso21254的200on1进行试验。
▶备有保证镀膜后面精度的反射镜（htfm）。
注意
▶使用前，请确认入射激光光束的能量密度不要超过激光损伤阈值。
▶通过透镜或凹面反射使激光光束变细后入射时，可能有能量密度超过激
光损伤阈值，反射镜受破损的危险。
▶入射光束的光量很大的时候，光束可能透过反射镜（透过率1%以下）。请
务必在反射镜的反面遮挡散乱光。
▶紫外谱区的反射镜有产生荧光的可能。对反射镜荧光有疑问的客户请至
营业部门咨询。
▶多层电介质膜因为入射光束的偏光状态不同其反射率波长特性将会有改
变。p偏光与s偏光相比，反射率变低，反射谱区变窄。
▶技术指标的反射率是用p偏光和s偏光的反射率的平均值来表示的。
▶在设计波长以外的波长区域使用时，反射率有可能降低。