至成镀膜设备-AF真空镀膜设备-南通镀膜设备

冷成型模真空镀膜机
高强度材料成形冷成型模真空镀膜机高强度金属成型中存在的高成型压力和产生的摩擦成为工模具和涂层要面对的重要挑战。pvd和cvd涂层展示的韧性、*性和*磨损性能显著提高工具的生产能力。
hc90concept，作为一种无需氮化处理的新型物*相沉积（pvd）涂层，对于这些应用领域来讲是非常理想的解决方案。hc22，hc25，hc30或hc62，均结合了氮化处理，对于公差要求高的工具是非常合适的涂层方案。hc02和hc62是非常适合公差要求不高工具的涂层方案。
有色金属材料成型有色金属材料通常比一般钢材有更好的成形性，但其表面更难改变。hcpvd和pacvd涂层工艺的韧性、*性、低摩擦和*磨损性能够显著加强工具的生产能力，提高零部件的质量。冷锻冷锻是一种将固定大小的金属块组合成等量的复杂形状的成型工艺。此过程中的工模具要经受高强度的压力和高速率，和工件接触的表面必然会产生磨料和粘着磨损。hcpvd和pacvd和hccvd涂层工艺的韧性、*性和低摩擦性能能够显著提高工模具的使用寿命和产品的质量。
镀膜理论
镀膜控制穿过光学干涉机制的反射光和透射光。当两个光束沿着同步路径传输及其相位匹配时，波峰值的空间位置也匹配并将结合创建较大的总振幅。当光束为反相位（180°位移）时，其叠加会导致在所有峰值的消减效应，导致结合的振幅降低。这些效应被分别称为建设性和*性的干涉。
光的波长和入射角通常是的，折射率和层厚度则可以有所不同以优化性能。上述的任何更改将会影响镀膜内光线的路径长度，并将在光透射时改变相位值。这种效应可简单地通过单层增透膜例子说明。当光传输穿过系统时，在镀膜任一侧的两个接口指数更改处将出现反射。为了尽量减少反射，我们希望它们在个接口重组时，这两个反射部分具有180°的相位移。这个相位差异直接对应于aλ/2位移的正弦波，它可通过将层的光学厚度设置为λ/4获得良好实现。
电子束光学镀膜机有哪些特点
在玻璃/pmma/pc基片上形成光学多层薄膜的精密真空镀膜机。将满足客户需求的多种元件组合在一起，可以形成品质更加优良的薄膜。
基片伞架采用了每分钟可转60转的中心旋转方式(公转)，减少产生振动和颗粒，使基片能够稳定旋转。
采用坩埚上没有*片的电子束加热方式(2台电子，10kw型)作为蒸发源，可以稳定地形成多层膜。
采用本公司*的比率控制法和多点在线监控，可以形成且稳定的光学多层膜。
可利用操作性良好的升降机来取出基片伞架。