氦质谱检漏仪 CVD 设备检漏,满足*三代半导体芯片量产

氦质谱检漏仪cvd 设备检漏, 满足*三代半导体芯片量产
上海伯东某客户是一家以**化合物半导体光电器件相关产品衍生智造为主业的创新型科技公司, **产品是物联网, 5g 通讯, 安防监控等*三代半导体芯片. 芯片在生产过程中使用 cvd 设备做镀膜处理, 在镀膜过程中需要保持设备处于高真空状态, 这就要求腔体的泄漏率不能过 1e-10 mbrl l/s.
cvd设备检漏要求
真空模式下, 漏率不能过 1e-10 mbrl l/s
快速抽空, 清洁无损的检漏
上海伯东氦质谱检漏仪cvd 设备检漏方案
根据客户 cvd 抽气腔体大小和要求清洁无油的测试环境, 上海伯东推荐德国 pfeiffer无油干式氦质谱检漏仪 asm 340d搭配日本iwata isp-500c 涡旋干泵进行 cvd 设备检漏.
检漏过程: 真空模式检漏, cvd 设备, 氦质谱检漏仪 asm340 d 和 isp-500c 涡旋泵搭建为三通系统, 检漏流程是先把 cvd 设备封闭, 再打开检漏的接口, 然后启动涡旋泵预抽腔体真空至 1500 pa. 腔体真空度稳定在 1500 pa 后, 启动氦质谱检漏仪, 设定检漏仪漏率为 1e-10 mbrl l/s, 从腔体外面喷氦气 he(在怀疑有漏的部位,比如阀门, 接口, 焊接处等地方), 如果漏率** 1e-10 mbrl l/s, 则判定为设备泄漏率是合格的, 如果泄漏率** 1e-10 mbrl l/s, 检漏仪会报警, 并**定量显示喷氦气的位置和漏率.
型号
asm 340 d
对氦气的小检测漏率
5e-13 pa m3/s
检测模式
真空模式和吸式
检测气体
4he, 3he, h2
启动时间 min
3
对氦气的抽气速度 l/s
2.5
进气口大压力 hpa
25
前级泵抽速 m3/h
隔膜泵 3.4 m3/
重量 kg
45
结合了 pfeiffer 与 adixen 两家检漏仪的技术优势, 上海伯东德国 pfeiffer 推出全系列新型号氦质谱检漏仪, 从便携式检漏仪到工作台式检漏仪满足各种不同的应用.氦质谱检漏仪替代传统泡沫检漏和压差检漏, 利用氦气作为示踪气体可定位, 定量漏点.氦质谱检漏仪满足单机检漏, 也可集成在检漏系统或 plc.推荐氦质谱检漏仪应用 >>
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