上海伯东 射频离子源 RFICP 380

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上海伯东美国 kri 大口径射频离子源 rficp 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200ev 宽束离子束, 离子束流 > 1000ma, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用.
kri射频离子源rficp 380 特性：
放电腔 discharge chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kw & 1.8 mhz, 射频自动匹配 离子源结构模块化设计 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行 全自动控制器 离子束动能 100-1200ev 栅极口径 38cm, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用
射频离子源rficp 380 技术规格：
阳极
电感耦合等离子体
2kw & 1.8 mhz
射频自动匹配
阳极功率
>1kw
离子束流
> 1000ma
电压范围
100-1500v
离子束动能
100-1200ev
气体
ar, o2, n2,其他
流量
5-50sccm
压力
< 0.5mtorr
离子光学, 自对准
optibeamtm
离子束栅极
38cm φ
栅极材质
钼或石墨
离子束流形状
平行,聚焦,散射
中和器
lfn 2000
高度
38.1 cm
直径
58.2 cm
锁紧安装法兰
12”cf
上海伯东美国考夫曼 kri 大口径射频离子源rficp220, rficp 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 ic 制造中的 al, w 刻蚀工艺, 适用于 ic, 微电子,光电子, mems 等领域.
1978 年 dr. kaufman 博士在美国创立 kaufman & robinson, inc 公司, 研发生产考夫曼离子源,霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经40 年改良及发展已取得多项专利. kri 离子源广泛用于离子清洗 pc, 离子蚀刻 ibe, 辅助镀膜 ibad, 离子溅射镀膜 ibsd 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
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