上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140

kri射频离子源rficp 140上海伯东代理美国原装进口 kri射频离子源rficp 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中，射频离子源rficp 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能量为 100~1200 ev 范围内获得很高的离子密度. 可以输出 600 ma 离子流.
kri射频离子源rficp 140 技术参数:
阳极
电感耦合等离子体
1kw & 1.8 mhz
射频自动匹配
阳极功率
1kw
离子束流
> 500ma
电压范围
100-1200v
离子束动能
100-1200ev
气体
ar, o2, n2,其他
流量
5-40sccm
压力
< 0.5mtorr
离子光学, 自对准
optibeamtm
离子束栅极
14cm φ
栅极材质
钼, 石墨
离子束流形状
平行,聚焦,散射
中和器
lfn 2000
高度
25.1 cm
直径
24.6 cm
锁紧安装法兰
12”cf
kri射频离子源rficp 140 应用领域：预清洗表面改性辅助镀膜(光学镀膜)ibad,溅镀和蒸发镀膜 pc离子溅射沉积和多层结构 ibsd离子蚀刻 ibe1978 年 dr. kaufman 博士在美国创立 kaufman & robinson, inc 公司, 研发生产考夫曼离子源,霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经40 年改良及发展已取得多项利. 离子源广泛用于离子清洗 pc, 离子蚀刻 ibe, 辅助镀膜 ibad, 离子溅射镀膜 ibsd 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源总代理.
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