抛光垫应用-新光速光电(在线咨询)-温州抛光垫

在氧化抛光液分别在不添加分散剂和添加氧化分散剂2种情况下zeta电位随着ph值的变化情况，可以看出，无论是否加入分散剂，温州抛光垫， ph值对氧化粉体
的悬浮性都有很大影响，随着ph值的*或减小， zeta电位逐渐变大，抛光液悬浮性逐渐变好。尤其是添加分散剂后，抛光液的zeta电位都向负值
方向移动，且迅速*。当ph值为11左右时，氧化抛光液悬浮性。
磨料在粒径大小可影响到磨粒的压强及其切入工件的深度。一般来说 ，在抛光过程中，聚氨酯抛光垫， 粒径大的磨粒压强大，抛光垫的作用，机械去除作用较强，材料去除率较高。所以
粒径较大的磨粒容易在抛光表面产生较大的残留划痕甚至残留裂纹;而粒径较小的磨粒可获得较好的抛光表面质量。另外在磨粒直径相同的情况下，球形
磨粒比表面不平的磨粒去除效率更高。
2 ph值调节剂
抛光液中常常添加一些化学*用于调节抛光液的ph值。以保证抛光过程化学反应的进行。化学机械抛光抛光液一 般分为酸性和碱性两大类。
抛光垫表面沟槽形式(平行与垂直交叉型或同心环形)、沟槽形状(v型、u型或楔型)、沟槽方向以及沟槽尺寸(深度、宽度和间距)等对磨料的分布和流动、抛光垫的寿命有着显著的影响。采用表面开有图1所示不同深度槽的两种阻尼布抛光垫的抛光实验
福吉结果表明：当整个抛光垫表面的槽足够深时，槽的深度对抛光过程没有影响，但抛光垫表面任何位置的槽磨损会影响到抛光过程甚至致使工件表面质量(工件表面不均匀性)恶化。
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