zestron HYDRON SE 220半导体电

hydron® se 220 专为半导体电子设计的 ph中性助焊剂清洗液 助焊剂清洗剂 hydron® se 220是一款水基型单相清洗液,专门设计用于浸没式清洗工艺。hydron® se 220能够有效去除芯片黏着后引线框架、分立器件、功率模块、功率led等多种半导体电子器件上的助焊剂残留，对于倒装芯片、cmos等器件也有卓越的清洗效果。 相较于其他清洗液的优势： 由于其独特的单相配方，hydron® se 220能在浸没式清洗工艺中提供卓越的清洗结果。同时，可以轻松用去离子水进行漂洗，且漂洗后不会有任何残留 该产品的ph呈中性，因此具有极佳的材料兼容性，特别不会对芯片表面的钝化层造成影响 hydron® se 220能够提供洁净、被激活的铜表面，能使铜表面在短暂时间内保持在理想状态，为后续邦定、成型、黏胶等工艺做好准备 hydron® se 220无闪点，可使用在浸没式清洗设备中，且无需防爆保护 不含卤素成分，气味低 应用领域 去除污染物 清洗工艺 清洗技术 功率电子器件清洗 sip封装清洗 晶圆级封装清洗 mems器件封装清洗 摄像模组清洗