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化学抛光是材料在化学介质中让表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。该方法可以抛光形状复杂的工件,碳化硅的新价格可以同时抛光很多工件,。化学抛光得到的表面粗糙度一般为ra10μm。
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