磁控溅射镀膜设备报价-磁控溅射镀膜设备-沈阳鹏程真空技术公司

溅射镀膜
溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常，磁控溅射镀膜设备报价，利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴*靶由镀膜材料制成，基片作为阳*，真空室中通入0.1-10pa的气或其它惰性气体，在阴*（靶）1-3kv直流负高压或13.56mhz的射频电压作用下产生辉光放电。电离出的离子轰击靶表面，磁控溅射镀膜设备，使得靶原子溅出并沉积在基片上，形成薄膜。溅射方法很多，主要有二级溅射、三级或四级溅射、磁控溅射、对靶溅射、射频溅射、偏压溅射、非对称交流射频溅射、离子束溅射以及反应溅射等。
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双靶磁控溅射镀膜机的特点有哪些？
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产品特点
1：此款镀膜仪配置有两个靶：一个靶配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶配套的是直流电源，磁控溅射镀膜设备多少钱，用于导电材料的溅射镀膜
2：该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。
3：该镀膜仪体积较小，磁控溅射镀膜设备价格，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。
卧式磁控溅射镀膜机
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主要用途：
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。
系统组成:
主要由真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。
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