KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220溅射沉积 ZrAlN薄膜

合金化是提高过渡族金属氮化物薄膜硬度及抗磨损、耐腐蚀性能的有效方法。al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高温氧化性能。
北京某大学实验室在对硬韧 zraln 薄膜及薄膜力学性能研究中, 采用伯东kri考夫曼射频离子源rfcip220 辅助磁控溅射沉积的方法在钛合金和单晶 si 上沉积不同 al 含量的zraln 薄膜.
伯东kri射频离子源rficp220技术参数:
离子源型号
rficp220
discharge
rficp射频
离子束流
>800 ma
离子动能
100-1200 v
栅直径
20 cm φ
离子束
聚焦, 平行, 散射
流量
10-40 sccm
通气
ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他
典型压力
< 0.5m torr
长度
30 cm
直径
41 cm
中和器
lfn 2000
*可选:灯丝中和器;可变长度的增量
试验中, 采用伯东kri考夫曼射频离子源rfcip220辅助磁控溅射沉积的方法获得均匀致密、大面积的 zraln 薄膜, 好的对 zraln 薄膜进行研究.
kri离子源的特功能实现了好的性能,增强的性和新颖的材料工艺.kri离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性,而这些特性在不使用kri离子源技术的情况下是无法实现的.
因此, 该研究项目才采用kri考夫曼射频离子源rfcip220辅助溅射沉积工艺.
伯东是德国pfeiffer真空泵,检漏仪,质谱仪,真空计,美国kri考夫曼离子源,美国hva真空阀门,美国intest高低温冲击测试机,美国ambrell感应加热设备和日本ns离子蚀刻机等进口的代理商.
伯东企业（上海）有限公司专注于pfeiffer,氦质谱检漏仪,intest等