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相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。净化工程的步的关键是设计，工程设计水平的好与坏将直接关系到整个工程之后的施工，还会影响净化工程今后的稳定性、可靠性、经济性。洁净室中的温湿度控制。洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到 人的*度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
1000级 一般只对尘埃浓度做要求，用于光学器件，仪器等高精仪器等10000级，用于液压设备的生产，和一些食品饮料的生产。100000级，医院净化工程，这个级别比较的低，对净化度要求不是很高，主要在印刷厂，包装厂等。设计净化系统组织的原则是相邻二级过滤器的效率不能太接近，净化工程施工，也不能相差太大。一般采用初效、中效、亚(或)三级过滤器。也可分四级，空气净化工程，增加*过滤器。我们国家的空气分子控制等的技术正在朝有利的方向发展，这项技术原先是由日本发展起来的，现在已经受到了全世界的关注和认可，在我们国家，这项技术已经受到了相关行业的重视并且投入研发，安徽净化工程，相信在不久的未来，我们国家的相关科研人员一定会在这个领域取得让人满意的成绩，为我们国家的净化工程行业做出贡献。
净化工程的一般施工程序：粉尘作业，无尘作业后，不允许交叉作业。 否则会影响项目的质量。 也就是说，在完成所有粉尘产生操作之后，可以进行无尘操作。现在国内的相关企业很多，所以净化工程企业之间的竞争也很激烈，因为科技的发展使得市场对净化工程的要求高了起来，从以前的价格竞争变成了现在的价值竞争。所以相关的净化工程企业应该提高自身的自主研发能力，不断的发展，才能适应这个竞争激烈的市场。要说净化工程在发展的前景方面，形势还是非常好的，市场需求更是一片大好。因为我们国家的制药、电子信息等行业都在迅速发展，所以对净化工程行业的发展起到了带动的作用。在这里需要提醒大家的是自从我们国家的方面的改革条文gmp-2010发布之后，既推动了生物和食品化工行业的发展，也间接的推动了净化工程行业的发展。而且相关方面的政策支持也让净化工程行业的发展机遇推到了。
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