上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 40

kri 考夫曼离子源kdc 40上海伯东代理美国原装进口 kri 考夫曼离子源kdc 40: 小型低成本直流栅极离子源. kdc 40 是 3cm 考夫曼型离子源升级款. 具有更大的栅极, 更坚固, 可以配置自对准第三层栅极.离子源kdc 40 适用于所有的离子工艺, 例如预清洗, 表面改性, 辅助镀膜, 溅射镀膜, 离子蚀刻和沉积.离子源kdc 40 兼容惰性或活性气体, 例如氧气和氮气. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 ma.kri 考夫曼离子源kdc 40 技术参数
型号
kdc 40
阳极
dc 直流
阳极功率
100w
*大离子束流
>100ma
电压
100-1200v
气体
惰性和反应气体
进气流量
2-10sccm
压力
<0.5m torr
离子光学(自对准)
optibeamtm
离子束直径
4cm φ max
栅极
钼和石墨
离子束形状
聚焦, 平行, 散射
高度
16cm
直径
9cm
kri 考夫曼离子源kdc 40 应用领域溅镀和蒸发镀膜 pc辅助镀膜(光学镀膜)ibad表面改性, 激活 sm离子溅射沉积和多层结构 ibsd离子蚀刻 ibe
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