北京赛米莱德公司-NR9 3000PY光刻胶

光刻胶：用化学反应进行图像转移的媒介
光刻胶具有光化学敏*，其经过*、显影、刻蚀等工艺，可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。
光刻胶和集成电路制造产业链的前端的即为光刻胶*，生产而得的不同类型的光刻胶被应用于消费电子、家用电器、信息通讯、汽车电子、航空航天等在内的各个下游终端领域，需求较为分散。
光刻胶基于应用领域不同一般可以分为半导体集成电路（ic）光刻胶、 pcb光刻胶以及lcd光刻胶三个大类。其中， pcb光刻胶占市场24.5%，半导体ic光刻胶占市场24.1%，lcd光刻胶占市场26.6%。
美国futurre光刻胶
30．想请教国产光刻胶不能达到膜厚要求，进口的有没有比较好的光刻胶啊？
都可以啊！goodpr是大陆比较多公司采用的，nr9 3000py光刻胶哪里有，
但是futurre 光刻胶在国外是比较有名气的，包括很多大型企业都有用，膜厚做的也
比较厚从18um-200um都 可以做到，看你对工艺的要求了。
光刻胶品牌futurre光刻胶产品属性：
1 futurre光刻胶产品简要描述及优势:
1.1 futurre光刻胶黏附性好，无需使用增粘剂（hmds）
1.2 负性光刻胶常温下可保存3年
1.3 150度烘烤，缩短了烘烤时间
1.4 单次旋涂能够达到100um膜厚
1.5 显影速率快，nr9 3000py光刻胶，100微米的膜厚，仅需6~8分钟
发展
futurrex在开发产品方面已经有很长的历史
我们的客户一直在同我们共同合作，创造出了很多强势的产品。
在晶体管(transistor) ，封装，微机电。显示器，oleds，波导(w*eguides) ，vcsels，
成像，nr9 3000py光刻胶公司，电镀，纳米碳管，微流体，芯片倒装等方面。我们都已经取得一系列的技术突破。
目前futurrex有数百个技术在美国商标局备案。
futurrex 产品目录
正性光刻胶
增强粘附性正性光刻胶
负性光刻胶
增强粘附性负性光刻胶
*工艺负性光刻胶
用于lift-off工艺的负性光刻胶
非光刻涂层
平坦化，保护、粘接涂层
氧化硅旋涂(spin-on glas)
掺杂层旋涂
辅助*
边胶清洗液
显影液
去胶液
futurrex所有光刻产品均无需加增粘剂(hmds)
北京赛米莱德公司-nr9 3000py光刻胶由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司是一家从事“光刻胶”的公司。自成立以来，我们坚持以“诚信为本，稳健经营”的方针，勇于参与市场的良性竞争，使“赛米莱德”品牌拥有良好口碑。我们坚持“服务至上，用户至上”的原则，使赛米莱德在工业制品中赢得了客户的信任，树立了良好的企业形象。 特别说明：本信息的图片和资料仅供参考，欢迎联系我们索取准确的资料，谢谢！