国产SU-8 2010光刻胶

简介：
中芯启恒su-8 2000系列光刻胶是负性光刻胶，采用环戊酮溶剂配制而成，在超厚度胶膜涂布工艺中，图案化的结构有较好的稳定性和高分辨率，其膜厚范围比任何其他市售光刻胶更广泛，单次旋涂工艺胶膜厚度可选1-300um范围，可根据需要进行多次旋涂，从而获得更厚的胶膜。自2019年推出后，受到了同行业客户的青睐，在mems微加工领域占据越来越多的市场份额。
中芯启恒su-8 2000系列光刻胶根据粘度不同，划分为以下型号：
中芯启恒su-8 2000系列
单次旋涂膜厚范围
su-8 2005
2-8um
su-8 2015
12-38um
su-8 2025
20-80um
su-8 2050
40-170um
su-8 2075
60-240um
su-8 2100
100-270um
备注：不同膜厚可通过调节匀胶机转速获得，因客户实验设备不同，实际参数需进行微调。
中芯启恒su-8-2000系列光刻胶推荐使用i线365nm紫外曝光，可选设备cchip-0019型光刻机，也可使用电子束或x射线辐照。光刻胶中的光引发剂吸收光子发生化学反应，生成一种强酸，作用是在中烘或后烘过程中作为酸催化剂促进交联反应的发生，只有曝光区域的光刻胶中才有强酸。后烘过程中，曝光区域在强酸的催化作用下，分子发生交联。 环氧交联发生在曝光后的烘烤步骤；一般工艺流程为：旋涂、软烘、曝光、中烘、显影。后烘或硬烘可以提高图案的分辨率或消除因应力出现的裂纹，增加图案与衬底的粘附力。