二氧化硅靶材SiO2磁控溅射靶材

二氧化硅(sio₂)靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
参数说明
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
产品介绍
二氧化硅（化学式：sio₂）是一种酸性氧化物，对应水化物为硅酸（h₂sio₃）。二氧化硅是硅最重要的化合物之一。地球上存在的天然二氧化硅约占地壳质量的12%，其存在形态有结晶型和无定型两大类，统称硅石。
中文名 二氧化硅 熔点 1650(±50)℃
化学式 sio₂ 水溶性 2230℃
分子量 60.08 溶解度 0.012g/100ml(水中)
关于我们
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法gdms或icp光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
注 ：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3w/cm2。
我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材，欢迎您的垂询。